Band gap narrowing induced by oxygen vacancies in reactively sputtered TiO2 thin films - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Thin Solid Films Année : 2023

Band gap narrowing induced by oxygen vacancies in reactively sputtered TiO2 thin films

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Dates et versions

hal-04006822 , version 1 (27-02-2023)

Identifiants

Citer

Abdelouadoud El Mesoudy, Denis Machon, Andreas Ruediger, Abdelatif Jaouad, Fabien Alibart, et al.. Band gap narrowing induced by oxygen vacancies in reactively sputtered TiO2 thin films. Thin Solid Films, 2023, 769, pp.139737. ⟨10.1016/j.tsf.2023.139737⟩. ⟨hal-04006822⟩
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