Dépôt de couches minces nanocomposites par procédé plasma froid : Intérêt de l’utilisation d’un réacteur-injecteur de nanoparticules - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2017

Dépôt de couches minces nanocomposites par procédé plasma froid : Intérêt de l’utilisation d’un réacteur-injecteur de nanoparticules

Yohan Champouret
E. Amin-Chalhoub
  • Fonction : Auteur
A. F. Mingotaud
Nicolas Gherardi
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 1248560
  • IdRef : 119074427
Nicolas Naudé
M. L. Kahn
  • Fonction : Auteur
Richard Clergereaux

Domaines

Plasmas
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-03998475 , version 1 (21-02-2023)

Identifiants

  • HAL Id : hal-03998475 , version 1

Citer

Yohan Champouret, Guillaume Carnide, E. Amin-Chalhoub, A. F. Mingotaud, C. Vahlas, et al.. Dépôt de couches minces nanocomposites par procédé plasma froid : Intérêt de l’utilisation d’un réacteur-injecteur de nanoparticules. Réunion plénière du GDRI NMC, Juin 2017, Montréal (CANADA), 2017, Montréal, Canada. ⟨hal-03998475⟩
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