Influence of NH3/SiH4 ratio on amorphous silicon nitride coatings deposited with Ar/NH3/SiH4 homogeneous DBD - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2008

Influence of NH3/SiH4 ratio on amorphous silicon nitride coatings deposited with Ar/NH3/SiH4 homogeneous DBD

J. Larrieu
  • Fonction : Auteur
Institut Européen des membranes
S. Pouliquen
  • Fonction : Auteur
Institut Français de Recherche pour l'Exploitation de la Mer
P. Lecouvreur
  • Fonction : Auteur
S. Quoizola
  • Fonction : Auteur
Nicolas Naudé
Matériaux et Procédés Plasmas
CV
Françoise F. Massines
Procédés, Matériaux et Energie Solaire

Domaines

Plasmas

Karine Pistre  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-03988374

Soumis le : mardi 14 février 2023-13:54:01

Dernière modification le : vendredi 18 octobre 2024-13:44:03

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Dates et versions

hal-03988374 , version 1 (14-02-2023)

Identifiants

  • HAL Id : hal-03988374 , version 1

Citer

J. Larrieu, S. Pouliquen, P. Lecouvreur, S. Quoizola, Nicolas Naudé, et al.. Influence of NH3/SiH4 ratio on amorphous silicon nitride coatings deposited with Ar/NH3/SiH4 homogeneous DBD. HAKONE XI: 11th International Symposium on High Pressure Low Temperature Plasma Chemistry, Ile d’Oléron, France., 2008, Ile d’Oléron, France. ⟨hal-03988374⟩

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