Plasma deposition of boron phosphide at low temperature - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2022

Plasma deposition of boron phosphide at low temperature

Domaines

Optique / photonique Energie électrique Micro et nanotechnologies/Microélectronique Science des matériaux [cond-mat.mtrl-sci] Matériaux

Jean-Paul KLEIDER  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-03878582

Soumis le : mardi 29 novembre 2022-19:58:56

Dernière modification le : mercredi 30 octobre 2024-13:28:52

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Dates et versions

hal-03878582 , version 1 (29-11-2022)

Identifiants

  • HAL Id : hal-03878582 , version 1

Citer

Alina Maksimova, Alexander Uvarov, Artem I. Baranov, Alexander Gudovskikh, Ekaterina Vyacheslavova, et al.. Plasma deposition of boron phosphide at low temperature. E-MRS Spring Meeting 2022, May 2022, Niemegen, Netherlands. ⟨hal-03878582⟩

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