Improvement of TiN thin film properties deposited by Atomic Layer Deposition - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Poster De Conférence Année : 2022
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-03860565 , version 1 (18-11-2022)

Identifiants

  • HAL Id : hal-03860565 , version 1

Citer

Kou Ihara, Maxime Lemaneger, Julien Cardin, Christophe Labbé. Improvement of TiN thin film properties deposited by Atomic Layer Deposition. 8th edition of the RAFALD Workshop, Nov 2022, Caen, France. , 2022. ⟨hal-03860565⟩
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