Plasma etching of III-V materials for photo transducers fabrication - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2022

Plasma etching of III-V materials for photo transducers fabrication

Domaines

Micro et nanotechnologies/Microélectronique Plasmas

Maxime Darnon  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-03831333

Soumis le : mercredi 26 octobre 2022-19:23:17

Dernière modification le : mercredi 18 décembre 2024-09:29:39

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-03831333 , version 1 (26-10-2022)

Identifiants

  • HAL Id : hal-03831333 , version 1

Citer

Benjamin Breton, Thomas Bidaud, Mathieu de Lafontaine, Abdelatif Jaouad, Denis Masson, et al.. Plasma etching of III-V materials for photo transducers fabrication. Plasma Etch and Strip in Microelectronics, Sep 2022, Leuven, Belgium. ⟨hal-03831333⟩

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