3D shaping of multi-layers stack using a single plasma etching step and greyscaleelectron-beam lithography - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2022

3D shaping of multi-layers stack using a single plasma etching step and greyscaleelectron-beam lithography

Domaines

Sciences de l'ingénieur [physics]

UMI3463 LN2  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-03822958

Soumis le : jeudi 20 octobre 2022-16:15:00

Dernière modification le : mercredi 18 décembre 2024-10:05:57

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-03822958 , version 1 (20-10-2022)

Identifiants

  • HAL Id : hal-03822958 , version 1

Citer

R. Dawant, Serge Ecoffey, Dominique Drouin. 3D shaping of multi-layers stack using a single plasma etching step and greyscaleelectron-beam lithography. 65th International Conference on Electron, Ion and Photon Beam Technology and Nanofabrication, May 2022, New Orleans, United States. ⟨hal-03822958⟩

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