Development of a silicon substrate thinning process for a flexible and self-sufficient neuroelectronic implant - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2022

Development of a silicon substrate thinning process for a flexible and self-sufficient neuroelectronic implant

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Origine : Fichiers produits par l'(les) auteur(s)

Dates et versions

hal-03778069 , version 1 (15-09-2022)

Identifiants

  • HAL Id : hal-03778069 , version 1

Citer

Chakrya-Anna Chhuon, Hélène Moulet, Alexis Vlandas, Philippe Mariage, Marc Faucher, et al.. Development of a silicon substrate thinning process for a flexible and self-sufficient neuroelectronic implant. IEEE Lille Engineering dor Medicine and Biology Conference, IEEE Lille Student Branch, Apr 2022, Lille, France. ⟨hal-03778069⟩
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