Article Dans Une Revue
physica status solidi (a)
Année : 2020
Laurent Pichon : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-03776598
Soumis le : mardi 13 septembre 2022-21:41:32
Dernière modification le : vendredi 13 octobre 2023-11:55:43
Citer
Kai Yang, Olivier de Sagazan, Laurent Pichon, Anne-Claire Salaün, Nathalie Coulon. Inductively Coupled Plasma Chemical Vapor Deposition for Silicon‐Based Technology Compatible with Low‐Temperature (≤220 °C) Flexible Substrates. physica status solidi (a), 2020, 217 (5), pp.1900556. ⟨10.1002/pssa.201900556⟩. ⟨hal-03776598⟩
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