Article Dans Une Revue
Thin Solid Films
Année : 1999
Laurent Pichon : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-03776563
Soumis le : mardi 13 septembre 2022-20:55:21
Dernière modification le : mercredi 7 février 2024-13:04:20
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-03776563 , version 1
- DOI : 10.1016/S0040-6090(98)01192-4
Citer
B. Tala-Ighil, A. Rahal, K. Mourgues, A. Toutah, L. Pichon, et al.. State creation induced by gate bias stress in unhydrogenated polysilicon TFTs. Thin Solid Films, 1999, 337 (1-2), pp.101-104. ⟨10.1016/S0040-6090(98)01192-4⟩. ⟨hal-03776563⟩
Collections
14
Consultations
0
Téléchargements