High–quality, large area deposition of vanadium dioxide (VO2) using magnetron sputtering - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2022

High–quality, large area deposition of vanadium dioxide (VO2) using magnetron sputtering

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Matériaux Génie des procédés

Aurelian CRUNTEANU  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-03768678

Soumis le : dimanche 4 septembre 2022-17:55:00

Dernière modification le : mercredi 11 septembre 2024-12:30:03

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-03768678 , version 1 (04-09-2022)

Identifiants

  • HAL Id : hal-03768678 , version 1

Citer

Eduard-Nicolae Sirjita, Alexandre Boulle, Richard Mayet, Jean-Christophe Orlianges, Aurelian Crunteanu. High–quality, large area deposition of vanadium dioxide (VO2) using magnetron sputtering. Journées nationales 2022 du GDR OXYFUN, GDR CNRS 3660, Guéthary, 4-8 avril 2022, Apr 2022, Guéthary, France. ⟨hal-03768678⟩

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