High–quality, large area deposition of vanadium dioxide (VO2) using magnetron sputtering - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2022
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-03768678 , version 1 (04-09-2022)

Identifiants

  • HAL Id : hal-03768678 , version 1

Citer

Eduard-Nicolae Sirjita, Alexandre Boulle, Richard Mayet, Jean-Christophe Orlianges, Aurelian Crunteanu. High–quality, large area deposition of vanadium dioxide (VO2) using magnetron sputtering. Journées nationales 2022 du GDR OXYFUN, GDR CNRS 3660, Guéthary, 4-8 avril 2022, Apr 2022, Guéthary, France. ⟨hal-03768678⟩
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