Ru plasma etching process for thermally stable and low resistivity contacts
Mohamed Najah
(1)
,
Mark Ferguson
(1)
,
Mohamed Boucherit
(2)
,
M Guillemain
,
Jacques Renaud
(2)
,
Luc Frechette
(3, 4)
,
Serge Charlebois
(3, 4)
,
F. Boone
(3, 4)
,
Serge Ecoffey
(3, 4)
Mohamed Najah
- Fonction : Auteur
- PersonId : 782768
- ORCID : 0000-0003-0632-1174
Mark Ferguson
- Fonction : Auteur
- PersonId : 827839
- ORCID : 0000-0002-5389-9342
Mohamed Boucherit
- Fonction : Auteur
- PersonId : 768089
- ORCID : 0000-0002-6740-7580
M Guillemain
- Fonction : Auteur
Luc Frechette
- Fonction : Auteur
- PersonId : 182692
- IdHAL : luc-frechette
- ORCID : 0000-0001-7138-0811
- IdRef : 181612275
Serge Charlebois
- Fonction : Auteur
- PersonId : 182698
- IdHAL : serge-charlebois
- ORCID : 0000-0001-7857-5056
F. Boone
- Fonction : Auteur
- PersonId : 182809
- IdHAL : francois-boone
- ORCID : 0000-0002-1622-1882
- IdRef : 194952029
Serge Ecoffey
- Fonction : Auteur
- PersonId : 182943
- IdHAL : serge-ecoffey
- ORCID : 0000-0002-3002-501X
- IdRef : 253123844