Organic/inorganic thin films deposited from diethoxydimethylsilane by plasma enhanced chemical vapor deposition

Stéphanie Roualdes; Nadine Hovnanian; Arie van Der Lee; Rene Berjoan; Jean Durand

doi:10.1016/S0022-3093(99)00249-5

Article Dans Une Revue Journal of Non-Crystalline Solids Année : 1999

Organic/inorganic thin films deposited from diethoxydimethylsilane by plasma enhanced chemical vapor deposition

, , (1) , ,

1

Stéphanie Roualdes

Fonction : Auteur

Nadine Hovnanian

Fonction : Auteur

Arie van Der Lee

Fonction : Auteur
PersonId : 746496
IdHAL : arie-van-der-lee
ORCID : 0000-0002-4567-1831
IdRef : 226110141

Institut Européen des membranes

Rene Berjoan

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Jean Durand

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https://hal.science/hal-03684310

Soumis le : mercredi 1 juin 2022-12:10:29

Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:12

Dates et versions

hal-03684310 , version 1 (01-06-2022)

Identifiants

HAL Id : hal-03684310 , version 1
DOI : 10.1016/S0022-3093(99)00249-5

Citer

Stéphanie Roualdes, Nadine Hovnanian, Arie van Der Lee, Rene Berjoan, Jean Durand. Organic/inorganic thin films deposited from diethoxydimethylsilane by plasma enhanced chemical vapor deposition. Journal of Non-Crystalline Solids, 1999, 248 (2-3), pp.235-246. ⟨10.1016/S0022-3093(99)00249-5⟩. ⟨hal-03684310⟩

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