Organic/inorganic thin films deposited from diethoxydimethylsilane by plasma enhanced chemical vapor deposition - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Non-Crystalline Solids Année : 1999

Organic/inorganic thin films deposited from diethoxydimethylsilane by plasma enhanced chemical vapor deposition

Stéphanie Roualdes
  • Fonction : Auteur
Nadine Hovnanian
  • Fonction : Auteur
Arie van Der Lee
Rene Berjoan
  • Fonction : Auteur
Jean Durand
  • Fonction : Auteur

Domaines

Matériaux
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-03684310 , version 1 (01-06-2022)

Identifiants

Citer

Stéphanie Roualdes, Nadine Hovnanian, Arie van Der Lee, Rene Berjoan, Jean Durand. Organic/inorganic thin films deposited from diethoxydimethylsilane by plasma enhanced chemical vapor deposition. Journal of Non-Crystalline Solids, 1999, 248 (2-3), pp.235-246. ⟨10.1016/S0022-3093(99)00249-5⟩. ⟨hal-03684310⟩
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