Application de la gravure plasma à la réalisation des composants micro-nanoélectroniques à base du Si au sein de la centrale technologique de l’IEMN - Archive ouverte HAL Access content directly
Poster Communications Year : 2018

Application de la gravure plasma à la réalisation des composants micro-nanoélectroniques à base du Si au sein de la centrale technologique de l’IEMN

Keywords

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Dates and versions

hal-03635053 , version 1 (08-04-2022)

Identifiers

  • HAL Id : hal-03635053 , version 1

Cite

Dmitri Yarekha. Application de la gravure plasma à la réalisation des composants micro-nanoélectroniques à base du Si au sein de la centrale technologique de l’IEMN. Colloque LN2, Jul 2018, Autrans, France. 2018. ⟨hal-03635053⟩
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