Dry etching at IEMN - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Poster De Conférence Année : 2019
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-03635035 , version 1 (08-04-2022)

Identifiants

  • HAL Id : hal-03635035 , version 1

Citer

Dmitri Yarekha. Dry etching at IEMN. Euronanolab Dry Etch Expert meeting, Dec 2019, Saclay, France. 2019. ⟨hal-03635035⟩
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