Article Dans Une Revue
Applied Physics Letters
Année : 2012
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https://hal.science/hal-03576082
Soumis le : mardi 15 février 2022-17:43:09
Dernière modification le : jeudi 28 novembre 2024-10:50:43
Citer
R. Issaoui, J. Achard, A. Tallaire, F. Silva, A. Gicquel, et al.. Evaluation of freestanding boron-doped diamond grown by chemical vapour deposition as substrates for vertical power electronic devices. Applied Physics Letters, 2012, 100 (12), pp.122109. ⟨10.1063/1.3697568⟩. ⟨hal-03576082⟩
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