Communication Dans Un Congrès
Année : 2021
Thomas Tillocher : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-03539474
Soumis le : vendredi 21 janvier 2022-16:59:06
Dernière modification le : mardi 4 juin 2024-11:28:03
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-03539474 , version 1
Citer
Remi Dussart, Thomas Tillocher, Gaelle Antoun, Jack Nos, Philippe Lefaucheux, et al.. Plasma cryogenic etching : benefits of cooling the substrate at a low temperature in etching process technologies. 42nd International Symposium on Dry Process, Nov 2021, Online, Japan. ⟨hal-03539474⟩
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