Article Dans Une Revue
Journal of Physics D: Applied Physics
Année : 2021
Daniel Lacour : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-03408466
Soumis le : lundi 8 novembre 2021-10:40:47
Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:13
Citer
Maud Jullien, C S Chang, L. Badie, S Robert, Michel Hehn, et al.. Magnetoresistive properties of cobalt thin films grown by plasma-assisted atomic layer deposition. Journal of Physics D: Applied Physics, 2021, 54 (10), pp.105002. ⟨10.1088/1361-6463/abc582⟩. ⟨hal-03408466⟩
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