Magnetoresistive properties of cobalt thin films grown by plasma-assisted atomic layer deposition - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Physics D: Applied Physics Année : 2021

Magnetoresistive properties of cobalt thin films grown by plasma-assisted atomic layer deposition

Maud Jullien
L. Badie
  • Fonction : Auteur
S Robert
  • Fonction : Auteur
Michel Hehn
Daniel Lacour
F Montaigne
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-03408466 , version 1 (08-11-2021)

Identifiants

Citer

Maud Jullien, C S Chang, L. Badie, S Robert, Michel Hehn, et al.. Magnetoresistive properties of cobalt thin films grown by plasma-assisted atomic layer deposition. Journal of Physics D: Applied Physics, 2021, 54 (10), pp.105002. ⟨10.1088/1361-6463/abc582⟩. ⟨hal-03408466⟩
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