L'UV210 [1] est une résine chimiquement amplifiée (CA) basé sur poly(p-hydroxystyrène) (PHS) en combinaison avec poly(tbutyl acrylate) (PBA). Comme toutes les résines CA, un photo-générateur d'acide (PAG) est ajouté à la matrice de copolymère. Lorsqu'elle est exposée à la lumière UV-profonds (248 nm), le PAG produit une petite quantité d'acide qui agit comme catalyseur pendant la post-exposition de cuisson au four. La cascade des transformations chimiques activée par l'acide entraîne un changement de polarité dans le polymère de lipophile à hydrophile. Ainsi, les régions exposées deviennent solubles dans le révélateur basique comme le tétra-méthyle l'hydroxyde d'ammonium (TMAH). L'utilisation d'un catalyseur acide entraîne une augmentation spectaculaire de l'efficacité quantique et sensibilité de l'exposition. Les propriétés physiques, d'indices optiques, mécaniques excellentes et appropriées permettent le développement relativement simplement de nombreuses structures photoniques sub-longueur d'onde diverses, de quelques centaines de nanomètres, de types rubans [2] ou même photo-inscrites par insolations variables [3]. A ce titre, de nombreux composants capteurs dédiés au suivi de la matière molle (transition de phase) sur cette base de polymère ont pu ainsi être réalisés [4-7].