Atomic-Scale Structure and Its Impact on Chemical Properties of Aluminum Oxide Layers Prepared by Atomic Layer Deposition on Silica
Domaines
Matériaux| Origine | Fichiers produits par l'(les) auteur(s) |
|---|
Article Dans Une Revue
Chemistry of Materials
Année : 2021
Dominique Massiot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-03365061
Soumis le : mercredi 6 octobre 2021-14:47:44
Dernière modification le : mardi 12 novembre 2024-15:20:06
Archivage à long terme le : vendredi 7 janvier 2022-19:04:41
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-03365061 , version 1
- DOI : 10.1021/acs.chemmater.1c00516
Citer
Monu Kaushik, César Leroy, Zixuan Chen, David Gajan, Elena Willinger, et al.. Atomic-Scale Structure and Its Impact on Chemical Properties of Aluminum Oxide Layers Prepared by Atomic Layer Deposition on Silica. Chemistry of Materials, 2021, 33 (9), pp.3335-3348. ⟨10.1021/acs.chemmater.1c00516⟩. ⟨hal-03365061⟩
Collections
40
Consultations
150
Téléchargements