Polydimethylsiloxane micro-channels application for the study of dynamic wetting of nano-etched silicon surfaces based on acoustic characterization method
Abbas Salhab
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Julien Carlier
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Pierre Campistron
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M. Neyens
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Malika Toubal
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Bertrand Nongaillard
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V. Thomy
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Abbas Salhab
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Résumé
Efficient cleaning of contaminations in the semiconductor industry is a determining factor in ensuring the good quality of the electronics products. We present here the dynamic wetting characterization of a fluid on top of Deep Trench Isolation (DTI) structures using ultra-high frequency acoustic method. The dynamics of the fluid will be established using a PolyDiMethylSiloxane (PDMS) micro-channel placed on top of the structures, in order to obtain conditions as close as possible to those used in the industrial process. Wetting state of the DTI structures is determined based on the measured acoustic reflection coefficient.
Domaines
Sciences de l'ingénieur [physics]Format du dépôt | Fichier |
---|---|
Type de dépôt | Communication dans un congrès |
Titre |
en
Polydimethylsiloxane micro-channels application for the study of dynamic wetting of nano-etched silicon surfaces based on acoustic characterization method
|
Résumé |
en
Efficient cleaning of contaminations in the semiconductor industry is a determining factor in ensuring the good quality of the electronics products. We present here the dynamic wetting characterization of a fluid on top of Deep Trench Isolation (DTI) structures using ultra-high frequency acoustic method. The dynamics of the fluid will be established using a PolyDiMethylSiloxane (PDMS) micro-channel placed on top of the structures, in order to obtain conditions as close as possible to those used in the industrial process. Wetting state of the DTI structures is determined based on the measured acoustic reflection coefficient.
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Auteur(s) |
Abbas Salhab
1, 2
, Julien Carlier
1, 3
, Pierre Campistron
1, 3
, M. Neyens
1
, Malika Toubal
1
, Bertrand Nongaillard
1, 3
, V. Thomy
1, 4
1
IEMN -
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520
( 1066983 )
- [Univ. Lille, CNRS, Centrale Lille Institut, Junia, Univ. Polytechnique Hauts-de-France] ––
Laboratoire Central – Cité Scientifique – Avenue Poincaré – CS 60069 – 59652 VILLENEUVE D’ASCQ CEDEX
- France
2
ST-CROLLES -
STMicroelectronics [Crolles]
( 23639 )
- 850 rue Jean Monnet BP 16 38926 Crolles
- France
3
MAMINA - IEMN -
Matériaux et Acoustiques pour MIcro et NAno systèmes intégrés - IEMN
( 1067471 )
- Groupe MAMINA
Bâtiment Lottmann
- 59313 Valenciennes cedex
- France
4
BIOMEMS - IEMN -
Bio-Micro-Electro-Mechanical Systems - IEMN
( 1067476 )
- Groupe BioMEMS - IEMN UMR8520
- France
|
Langue du document |
Anglais
|
Vulgarisation |
Non
|
Comité de lecture |
Oui
|
Invité |
Non
|
Audience |
Internationale
|
Actes |
Oui
|
Date de publication |
2021
|
Volume |
314 SSP
|
Page/Identifiant |
143-149
|
Titre du congrès |
15th International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces, UCPSS 2021, Session 6 - Wet processing in narrow spaces and pattern collapse
|
Date début congrès |
2021-04-12
|
Date fin congrès |
2021-04-15
|
Ville |
Virtual
|
Pays |
zz
|
Commentaire |
ORAL
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Référence interne |
|
Domaine(s) |
|
Éditeur commercial |
|
Éditeur scientifique |
|
Collaboration/Projet |
|
Mots-clés |
en
Acoustics, Deep trench isolation, Micro and Nano-technology, Microelectronics, Microfluidics, Nondestructive testing, Piezoelectric transducers, Surface cleaning, Wetting
|
DOI | 10.4028/www.scientific.net/SSP.314.143 |
Origine :
Fichiers produits par l'(les) auteur(s)
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