Unveiling a critical thickness in photocatalytic TiO 2 thin films grown by plasma-enhanced chemical vapor deposition using real time in situ spectroscopic ellipsometry - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Journal of Physics D: Applied Physics Année : 2021

Unveiling a critical thickness in photocatalytic TiO 2 thin films grown by plasma-enhanced chemical vapor deposition using real time in situ spectroscopic ellipsometry

W Ravisy
Institut des Matériaux Jean Rouxel
M Richard-Plouet
Institut des Matériaux Jean Rouxel
B Dey
  • Fonction : Auteur
Luxembourg Institute of Science and Technology
S Bulou
Luxembourg Institute of Science and Technology
P Choquet
Luxembourg Institute of Science and Technology
A Granier
Institut des Matériaux Jean Rouxel
A Goullet
Institut des Matériaux Jean Rouxel

Domaines

Science des matériaux [cond-mat.mtrl-sci]
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Citer

W Ravisy, M Richard-Plouet, B Dey, S Bulou, P Choquet, et al.. Unveiling a critical thickness in photocatalytic TiO 2 thin films grown by plasma-enhanced chemical vapor deposition using real time in situ spectroscopic ellipsometry. Journal of Physics D: Applied Physics, 2021, 54 (44), pp.445303. ⟨10.1088/1361-6463/ac1ec1⟩. ⟨hal-03361038⟩

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