Rapid thermal annealing of LPCVD-SOI substrates for sensor applications - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Sensors and Actuators A: Physical Année : 1992

Rapid thermal annealing of LPCVD-SOI substrates for sensor applications

P. Jeanjean
  • Fonction : Auteur
P. Sellitto
  • Fonction : Auteur
J. Sicart
  • Fonction : Auteur
J.L. Robert
  • Fonction : Auteur
Martine Le Berre
G. Chaussemy
  • Fonction : Auteur
P. Pinard
  • Fonction : Auteur

Dates et versions

hal-03328893 , version 1 (30-08-2021)

Identifiants

Citer

P. Jeanjean, P. Sellitto, J. Sicart, J.L. Robert, Martine Le Berre, et al.. Rapid thermal annealing of LPCVD-SOI substrates for sensor applications. Sensors and Actuators A: Physical , 1992, 33 (1-2), pp.77-80. ⟨10.1016/0924-4247(92)80230-Z⟩. ⟨hal-03328893⟩
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