Article Dans Une Revue
Materials Science and Engineering: B
Année : 1997
Martine LE BERRE : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-03328855
Soumis le : lundi 30 août 2021-14:07:10
Dernière modification le : vendredi 15 septembre 2023-10:38:30
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-03328855 , version 1
- DOI : 10.1016/S0921-5107(96)01925-3
Citer
Y. Guyot, C. Malhaire, Martine Le Berre, B. Champagnon, A. Sibai, et al.. Micro-Raman study of thermoelastic stress distribution in oxidized silicon membranes and correlation with finite element modeling. Materials Science and Engineering: B, 1997, 46 (1-3), pp.24-28. ⟨10.1016/S0921-5107(96)01925-3⟩. ⟨hal-03328855⟩
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