Micro-Raman study of thermoelastic stress distribution in oxidized silicon membranes and correlation with finite element modeling - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Materials Science and Engineering: B Année : 1997

Micro-Raman study of thermoelastic stress distribution in oxidized silicon membranes and correlation with finite element modeling

Y. Guyot
C. Malhaire
  • Fonction : Auteur
Martine Le Berre
B. Champagnon
  • Fonction : Auteur
A. Sibai
  • Fonction : Auteur
E. Bustarret
D. Barbier
  • Fonction : Auteur

Dates et versions

hal-03328855 , version 1 (30-08-2021)

Identifiants

Citer

Y. Guyot, C. Malhaire, Martine Le Berre, B. Champagnon, A. Sibai, et al.. Micro-Raman study of thermoelastic stress distribution in oxidized silicon membranes and correlation with finite element modeling. Materials Science and Engineering: B, 1997, 46 (1-3), pp.24-28. ⟨10.1016/S0921-5107(96)01925-3⟩. ⟨hal-03328855⟩
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