Streaming and removal forces due to second-order sound field during megasonic cleaning of silicon wafers - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Journal of Applied Physics Année : 2000

Streaming and removal forces due to second-order sound field during megasonic cleaning of silicon wafers

Domaines

Sciences de l'ingénieur [physics] Physique [physics]

Jérôme Vasseur  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-03301993

Soumis le : mardi 27 juillet 2021-16:47:05

Dernière modification le : vendredi 19 juillet 2024-11:38:04

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hal-03301993 , version 1 (27-07-2021)

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Citer

Jerome O. Vasseur, P. Deymier, J. Vasseur, A. Khelif, Bahram Djafari-Rouhani, et al.. Streaming and removal forces due to second-order sound field during megasonic cleaning of silicon wafers. Journal of Applied Physics, 2000, 88 (11), pp.6821-6835. ⟨10.1063/1.1323521⟩. ⟨hal-03301993⟩

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