Article Dans Une Revue
Journal of Applied Physics
Année : 2021
François Lefloch : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-03166557
Soumis le : jeudi 11 mars 2021-12:57:39
Dernière modification le : mardi 3 septembre 2024-11:16:05
Citer
T. Vethaak, F. Gustavo, T. Farjot, T. Kubart, P. Gergaud, et al.. Influence of substrate-induced thermal stress on the superconducting properties of V 3 Si thin films. Journal of Applied Physics, 2021, 129 (10), pp.105104. ⟨10.1063/5.0038638⟩. ⟨hal-03166557⟩
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