Vanadium pentoxide thin films deposited by atomic layer deposition: A model electrode for investigating the structural changes induced by lithium intercalation - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal de Physique IV Proceedings Année : 2001

Vanadium pentoxide thin films deposited by atomic layer deposition: A model electrode for investigating the structural changes induced by lithium intercalation

V. Golabkan
  • Fonction : Auteur
J. Pereira-Ramos
  • Fonction : Auteur
A. Mantoux
  • Fonction : Auteur
D. Lincot
  • Fonction : Auteur

Domaines

Chimie

Dates et versions

hal-03132009 , version 1 (04-02-2021)

Identifiants

Citer

Rita Baddour-Hadjean, V. Golabkan, J. Pereira-Ramos, A. Mantoux, D. Lincot. Vanadium pentoxide thin films deposited by atomic layer deposition: A model electrode for investigating the structural changes induced by lithium intercalation. Journal de Physique IV Proceedings, 2001, 11 (PR11), pp.Pr11-85-Pr11-90. ⟨10.1051/jp4:20011113⟩. ⟨hal-03132009⟩

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CNRS UPEC ICMPE
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