Superconducting Polycrystalline Silicon Layer Obtained by Boron Implantation and Nanosecond Laser Annealing - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue ECS Journal of Solid State Science and Technology Année : 2021
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Dates et versions

hal-03121810 , version 1 (26-01-2021)

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Citer

R. Daubriac, P. Acosta Alba, C. Marcenat, S. Lequien, T. Vethaak, et al.. Superconducting Polycrystalline Silicon Layer Obtained by Boron Implantation and Nanosecond Laser Annealing. ECS Journal of Solid State Science and Technology, 2021, 10 (1), pp.014004. ⟨10.1149/2162-8777/abdc41⟩. ⟨hal-03121810⟩
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