Superconducting Polycrystalline Silicon Layer Obtained by Boron Implantation and Nanosecond Laser Annealing - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue ECS Journal of Solid State Science and Technology Année : 2021

Superconducting Polycrystalline Silicon Layer Obtained by Boron Implantation and Nanosecond Laser Annealing

Domaines

Systèmes mésoscopiques et effet Hall quantique [cond-mat.mes-hall] Supraconductivité [cond-mat.supr-con] Micro et nanotechnologies/Microélectronique

François Lefloch  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-03121810

Soumis le : mardi 26 janvier 2021-15:59:51

Dernière modification le : mardi 3 septembre 2024-11:16:05

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Dates et versions

hal-03121810 , version 1 (26-01-2021)

Identifiants

Citer

R. Daubriac, P. Acosta Alba, C. Marcenat, S. Lequien, T. Vethaak, et al.. Superconducting Polycrystalline Silicon Layer Obtained by Boron Implantation and Nanosecond Laser Annealing. ECS Journal of Solid State Science and Technology, 2021, 10 (1), pp.014004. ⟨10.1149/2162-8777/abdc41⟩. ⟨hal-03121810⟩

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