Investigation of Cu/TaN and Co/TaN Barrier-Seed Oxidation by Acidic and Alkaline Copper Electroplating Chemistry for Damascene Applications - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Journal of The Electrochemical Society Année : 2018

Investigation of Cu/TaN and Co/TaN Barrier-Seed Oxidation by Acidic and Alkaline Copper Electroplating Chemistry for Damascene Applications

Louis Caillard
  • Fonction : Auteur
aveni, massy
Jackie Vigneron
  • Fonction : Auteur
Institut Lavoisier de Versailles
Mikailou Thiam
  • Fonction : Auteur
aveni, F-91300 Massy
Amine Lakhdari
  • Fonction : Auteur
Institut Lavoisier de Versailles
Frédéric Raynal
  • Fonction : Auteur
aveni, F-91300 Massy
Arnaud Etcheberry
Institut Lavoisier de Versailles

Domaines

Chimie

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https://hal.science/hal-03119379

Soumis le : samedi 23 janvier 2021-21:38:06

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Dates et versions

hal-03119379 , version 1 (23-01-2021)

Identifiants

Citer

Louis Caillard, Jackie Vigneron, Mikailou Thiam, Amine Lakhdari, Frédéric Raynal, et al.. Investigation of Cu/TaN and Co/TaN Barrier-Seed Oxidation by Acidic and Alkaline Copper Electroplating Chemistry for Damascene Applications. Journal of The Electrochemical Society, 2018, 165 (10), pp.D439-D443. ⟨10.1149/2.0761810jes⟩. ⟨hal-03119379⟩

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