Article Dans Une Revue
The European Physical Journal D : Atomic, molecular, optical and plasma physics
Année : 2005
Walid Chaibi : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-03089474
Soumis le : lundi 28 décembre 2020-14:51:07
Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:53:20
Citer
C. Blondel, W. Chaibi, C. Delsart, C. Drag, F. Goldfarb, et al.. The electron affinities of O, Si, and S revisited with the photodetachment microscope. The European Physical Journal D : Atomic, molecular, optical and plasma physics, 2005, 33 (3), pp.335-342. ⟨10.1140/epjd/e2005-00069-9⟩. ⟨hal-03089474⟩
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