Article Dans Une Revue
physica status solidi (a)
Année : 2019
Julien Brault : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-03035090
Soumis le : mercredi 2 décembre 2020-08:47:51
Dernière modification le : vendredi 1 mars 2024-18:20:03
Citer
Xingzhao Wu, Lai Wang, Zhibiao Hao, Yanjun Han, Changzheng Sun, et al.. The Effect of Inductively Coupled Plasma Etching on the I – V Curves of the Avalanche Photodiode with GaN/AlN Periodically Stacked Structure. physica status solidi (a), 2019, 216 (24), pp.1900655. ⟨10.1002/pssa.201900655⟩. ⟨hal-03035090⟩
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