Impact of PECVD μc-Si:H deposition on tunnel oxide for passivating contacts - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue EPJ Photovoltaics Année : 2020

Impact of PECVD μc-Si:H deposition on tunnel oxide for passivating contacts

Anatole Desthieux
Jorge Posada
  • Fonction : Auteur
Pierre-Philippe Grand
  • Fonction : Auteur
Cédric Broussillou
  • Fonction : Auteur
Barbara Bazer-Bachi
  • Fonction : Auteur
Gilles Goaer
  • Fonction : Auteur
Davina Messou
  • Fonction : Auteur
Muriel Bouttemy
Etienne Drahi

Domaines

Biotechnologie

Dates et versions

hal-03030279 , version 1 (30-11-2020)

Identifiants

Citer

Anatole Desthieux, Jorge Posada, Pierre-Philippe Grand, Cédric Broussillou, Barbara Bazer-Bachi, et al.. Impact of PECVD μc-Si:H deposition on tunnel oxide for passivating contacts. EPJ Photovoltaics, 2020, 11, pp.3. ⟨10.1051/epjpv/2020001⟩. ⟨hal-03030279⟩
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