Influence of sputtering conditions and annealing parameters on structure and morphology of NiTiO3 ilmenite thin films
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| Origine | Fichiers produits par l'(les) auteur(s) |
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Soumis le : lundi 17 octobre 2022-08:35:58
Dernière modification le : jeudi 19 mars 2026-16:48:02
Archivage à long terme le : mercredi 18 janvier 2023-19:15:02