Formation of SiP 2 Nanocrystals Embedded in SiO 2 from Phosphorus-Rich SiO 1.5 Thin Films - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Physical Chemistry C Année : 2020

Formation of SiP 2 Nanocrystals Embedded in SiO 2 from Phosphorus-Rich SiO 1.5 Thin Films

S. Geiskopf
  • Fonction : Auteur
Mathieu Stoffel
X. Devaux
A. Bouché
  • Fonction : Auteur
Michel Vergnat
Hervé Rinnert
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Dates et versions

hal-02931700 , version 1 (12-11-2020)

Identifiants

Citer

S. Geiskopf, Mathieu Stoffel, X. Devaux, Erwan André, C. Carteret, et al.. Formation of SiP 2 Nanocrystals Embedded in SiO 2 from Phosphorus-Rich SiO 1.5 Thin Films. Journal of Physical Chemistry C, 2020, 124 (14), pp.7973-7978. ⟨10.1021/acs.jpcc.9b11416⟩. ⟨hal-02931700⟩
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