Controlling the flux of reactive species: a case study on thin film deposition in an aniline/argon plasma - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Scientific Reports Année : 2020

Controlling the flux of reactive species: a case study on thin film deposition in an aniline/argon plasma

Domaines

Physique des plasmas [physics.plasm-ph] Science des matériaux [cond-mat.mtrl-sci]

Dario Sciacqua  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-02877171

Soumis le : lundi 22 juin 2020-10:06:38

Dernière modification le : mardi 4 juin 2024-11:28:03

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Dates et versions

hal-02877171 , version 1 (22-06-2020)

Identifiants

Citer

Dario Sciacqua, Cédric Pattyn, Andrea Jagodar, Erik von Wahl, Thomas Lecas, et al.. Controlling the flux of reactive species: a case study on thin film deposition in an aniline/argon plasma. Scientific Reports, 2020, 10, pp.15913. ⟨10.1038/s41598-020-72634-y⟩. ⟨hal-02877171⟩

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