Voltage Waveform Tailoring in a RF-CCP reactor: Exploration of self-bias, electron density and current waveform - Archive ouverte HAL
Poster De Conférence Année : 2011

Voltage Waveform Tailoring in a RF-CCP reactor: Exploration of self-bias, electron density and current waveform

Pierre-Alexandre Delattre
  • Fonction : Auteur
Laboratoire de Physique des Plasmas
S. Pouliquen
  • Fonction : Auteur
Laboratoire de Physique des Plasmas
E.V. Johnson
CV
Jean-Paul Booth
Laboratoire de Physique des Plasmas
CV

Domaines

Physique des plasmas [physics.plasm-ph]

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https://hal.science/hal-02611277

Soumis le : lundi 18 mai 2020-12:35:31

Dernière modification le : jeudi 1 août 2024-13:48:06

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Dates et versions

hal-02611277 , version 1 (18-05-2020)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02611277 , version 1

Citer

Pierre-Alexandre Delattre, S. Pouliquen, E.V. Johnson, Jean-Paul Booth. Voltage Waveform Tailoring in a RF-CCP reactor: Exploration of self-bias, electron density and current waveform. ICPIG, Aug 2011, Belfast, Northern Ireland, United Kingdom. 2011. ⟨hal-02611277⟩

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