RF waveform tailoring to control film morphology during nanocrystalline silicon PECVD - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2010

RF waveform tailoring to control film morphology during nanocrystalline silicon PECVD

Jean-Paul Booth
Laboratoire de Physique des Plasmas
CV
E.V. Johnson
CV
T. Verbeke
  • Fonction : Auteur
J-C Vanel
  • Fonction : Auteur

Domaines

Physique des plasmas [physics.plasm-ph]

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https://hal.science/hal-02595161

Soumis le : vendredi 15 mai 2020-19:43:19

Dernière modification le : jeudi 12 décembre 2024-03:44:05

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Dates et versions

hal-02595161 , version 1 (15-05-2020)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02595161 , version 1

Citer

Jean-Paul Booth, E.V. Johnson, T. Verbeke, J-C Vanel. RF waveform tailoring to control film morphology during nanocrystalline silicon PECVD. UK-Technological Plasmas Workshop, Dec 2010, Bristol, United Kingdom. ⟨hal-02595161⟩

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