Nanocrystalline silicon film growth morphology control through RF waveform tailoring - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2010

Nanocrystalline silicon film growth morphology control through RF waveform tailoring

Jean-Paul Booth
Laboratoire de Physique des Plasmas
CV
E.V. Johnson
CV
T. Verbeke
  • Fonction : Auteur
J-C Vanel
  • Fonction : Auteur

Domaines

Physique des plasmas [physics.plasm-ph]

LPP Référent-HAL  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-02595160

Soumis le : vendredi 15 mai 2020-19:43:16

Dernière modification le : jeudi 1 août 2024-13:48:06

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02595160 , version 1 (15-05-2020)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02595160 , version 1

Citer

Jean-Paul Booth, E.V. Johnson, T. Verbeke, J-C Vanel. Nanocrystalline silicon film growth morphology control through RF waveform tailoring. AVS Symposium, Oct 2010, Albuquerque, New Mexico, United States. ⟨hal-02595160⟩

Exporter

BibTeX XML-TEI Dublin Core DC Terms EndNote DataCite

Collections

OBSPM X CNRS X-DEP-PHYS PSL UNIV-PARIS-SACLAY SORBONNE-UNIVERSITE SU-SCIENCES X-LPP LABORATOIRE-DE-PHYSIQUE-DES-PLASMAS-LPP LPP-PLASMAS-FROIDS GS-PHYSIQUE
24 Consultations
0 Téléchargements

Partager

More