Control of Microcrystalline Silicon Deposition by RF Waveform Tailoring - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2010

Control of Microcrystalline Silicon Deposition by RF Waveform Tailoring

E.V. Johnson
CV
Jean-Paul Booth
Laboratoire de Physique des Plasmas
CV
J-C Vanel
  • Fonction : Auteur
T. Verbeke
  • Fonction : Auteur

Domaines

Physique des plasmas [physics.plasm-ph]

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https://hal.science/hal-02595158

Soumis le : vendredi 15 mai 2020-19:43:15

Dernière modification le : jeudi 1 août 2024-13:48:06

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Dates et versions

hal-02595158 , version 1 (15-05-2020)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02595158 , version 1

Citer

E.V. Johnson, Jean-Paul Booth, J-C Vanel, T. Verbeke. Control of Microcrystalline Silicon Deposition by RF Waveform Tailoring. Gaseous Electronics Conference, Oct 2010, Paris, France. ⟨hal-02595158⟩

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