DEPOSITION OF THIN FILM OF SILICON MICROCRISTALLINE BY RADIO FREQUENCY VOLTAGE WAVEFORM TAILORING - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2011

DEPOSITION OF THIN FILM OF SILICON MICROCRISTALLINE BY RADIO FREQUENCY VOLTAGE WAVEFORM TAILORING

S. Pouliquen
  • Fonction : Auteur
Laboratoire de Physique des Plasmas
Pierre-Alexandre Delattre
  • Fonction : Auteur
Laboratoire de Physique des Plasmas
E.V. Johnson
CV
Jean-Paul Booth
Laboratoire de Physique des Plasmas
CV

Domaines

Physique des plasmas [physics.plasm-ph]

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https://hal.science/hal-02594748

Soumis le : vendredi 15 mai 2020-19:13:49

Dernière modification le : jeudi 1 août 2024-13:48:06

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02594748 , version 1 (15-05-2020)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02594748 , version 1

Citer

S. Pouliquen, Pierre-Alexandre Delattre, E.V. Johnson, Jean-Paul Booth. DEPOSITION OF THIN FILM OF SILICON MICROCRISTALLINE BY RADIO FREQUENCY VOLTAGE WAVEFORM TAILORING. AVS, Oct 2011, Nashville, Tennessee, United States. ⟨hal-02594748⟩

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