Control of Nanocrystalline Growth Phase and Deposition Rate through Voltage Waveform Tailoring - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2011

Control of Nanocrystalline Growth Phase and Deposition Rate through Voltage Waveform Tailoring

E.V. Johnson
CV
Pierre-Alexandre Delattre
  • Fonction : Auteur
Laboratoire de Physique des Plasmas
Jean-Paul Booth
Laboratoire de Physique des Plasmas
CV

Domaines

Physique des plasmas [physics.plasm-ph]

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https://hal.science/hal-02594741

Soumis le : vendredi 15 mai 2020-19:13:41

Dernière modification le : jeudi 1 août 2024-13:48:06

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Dates et versions

hal-02594741 , version 1 (15-05-2020)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02594741 , version 1

Citer

E.V. Johnson, Pierre-Alexandre Delattre, Jean-Paul Booth. Control of Nanocrystalline Growth Phase and Deposition Rate through Voltage Waveform Tailoring. MRS spring meeting, Apr 2011, San Francisco, California, United States. ⟨hal-02594741⟩

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