RF waveform tailoring to control film morphology during nanocrystalline silicon PECVD - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2011

RF waveform tailoring to control film morphology during nanocrystalline silicon PECVD

Jean-Paul Booth
Laboratoire de Physique des Plasmas
CV
E.V. Johnson
CV
Pierre-Alexandre Delattre
  • Fonction : Auteur
Laboratoire de Physique des Plasmas
T. Verbeke
  • Fonction : Auteur
J-C Vanel
  • Fonction : Auteur

Domaines

Physique des plasmas [physics.plasm-ph]

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https://hal.science/hal-02594739

Soumis le : vendredi 15 mai 2020-19:13:41

Dernière modification le : jeudi 1 août 2024-13:48:06

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Dates et versions

hal-02594739 , version 1 (15-05-2020)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02594739 , version 1

Citer

Jean-Paul Booth, E.V. Johnson, Pierre-Alexandre Delattre, T. Verbeke, J-C Vanel. RF waveform tailoring to control film morphology during nanocrystalline silicon PECVD. International Conference on Plasmas and Nanotechnology (ICPLANTS), Feb 2011, Takayama, Japan. ⟨hal-02594739⟩

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