Cleaning and doping of CVD graphene using tailored voltage waveform capacitively coupled plasma - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2015

Cleaning and doping of CVD graphene using tailored voltage waveform capacitively coupled plasma

Daniil Marinov
  • Fonction : Auteur
Laboratoire de Physique des Plasmas
Bastien Bruneau
  • Fonction : Auteur
Erik Johnson
CV
Jean-Paul Booth
Laboratoire de Physique des Plasmas
CV

Domaines

Physique des plasmas [physics.plasm-ph]

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https://hal.science/hal-02593662

Soumis le : vendredi 15 mai 2020-17:33:23

Dernière modification le : jeudi 12 décembre 2024-03:44:04

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Dates et versions

hal-02593662 , version 1 (15-05-2020)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02593662 , version 1

Citer

Daniil Marinov, Bastien Bruneau, Erik Johnson, Jean-Paul Booth. Cleaning and doping of CVD graphene using tailored voltage waveform capacitively coupled plasma. Plasma Etch and Strip in Microelectronics _PESM, Apr 2015, Louvain, Belgium. ⟨hal-02593662⟩

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