Plasma deposition processes excited using Tailored Voltage Waveforms: from microcrystalline silicon thin films to devices - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2012

Plasma deposition processes excited using Tailored Voltage Waveforms: from microcrystalline silicon thin films to devices

E.V. Johnson
CV
S. Pouliquen
  • Fonction : Auteur
Pierre-Alexandre Delattre
  • Fonction : Auteur
Laboratoire de Physique des Plasmas
Jean-Paul Booth
Laboratoire de Physique des Plasmas
CV

Domaines

Physique des plasmas [physics.plasm-ph]

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https://hal.science/hal-02573299

Soumis le : jeudi 14 mai 2020-12:08:12

Dernière modification le : jeudi 1 août 2024-13:48:06

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Dates et versions

hal-02573299 , version 1 (14-05-2020)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02573299 , version 1

Citer

E.V. Johnson, S. Pouliquen, Pierre-Alexandre Delattre, Jean-Paul Booth. Plasma deposition processes excited using Tailored Voltage Waveforms: from microcrystalline silicon thin films to devices. AVS Symposium, Oct 2012, Tampa, Floride, United States. ⟨hal-02573299⟩

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