Plasma Excitation using Tailored Voltage Waveforms for the Deposition of Thin Film Silicon for Photovoltaics: From Plasma Physics to Devices - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2012

Plasma Excitation using Tailored Voltage Waveforms for the Deposition of Thin Film Silicon for Photovoltaics: From Plasma Physics to Devices

E.V. Johnson
CV
Pierre-Alexandre Delattre
  • Fonction : Auteur
Laboratoire de Physique des Plasmas
Trevor Lafleur
Laboratoire de Physique des Plasmas
Jean-Paul Booth
Laboratoire de Physique des Plasmas
CV

Domaines

Physique des plasmas [physics.plasm-ph]

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https://hal.science/hal-02573298

Soumis le : jeudi 14 mai 2020-12:08:11

Dernière modification le : jeudi 1 août 2024-13:48:06

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Dates et versions

hal-02573298 , version 1 (14-05-2020)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02573298 , version 1

Citer

E.V. Johnson, Pierre-Alexandre Delattre, Trevor Lafleur, Jean-Paul Booth. Plasma Excitation using Tailored Voltage Waveforms for the Deposition of Thin Film Silicon for Photovoltaics: From Plasma Physics to Devices. 5th International Symposium on Atomically Controlled, Oct 2012, Osaka, Japan. ⟨hal-02573298⟩

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