Tailored Voltage Waveform Capacitively-Coupled Plasmas for IEDF and electron density control: Application to Microcrystalline Si Deposition - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2013

Tailored Voltage Waveform Capacitively-Coupled Plasmas for IEDF and electron density control: Application to Microcrystalline Si Deposition

Jean-Paul Booth
Laboratoire de Physique des Plasmas
CV
Erik Johnson
CV
Trevor Lafleur
Laboratoire de Physique des Plasmas
Pierre-Alexandre Delattre
  • Fonction : Auteur
Laboratoire de Physique des Plasmas

Résumé

Oral

Domaines

Physique des plasmas [physics.plasm-ph]

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https://hal.science/hal-02573289

Soumis le : jeudi 14 mai 2020-12:07:59

Dernière modification le : jeudi 1 août 2024-13:48:06

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Dates et versions

hal-02573289 , version 1 (14-05-2020)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02573289 , version 1

Citer

Jean-Paul Booth, Erik Johnson, Trevor Lafleur, Pierre-Alexandre Delattre. Tailored Voltage Waveform Capacitively-Coupled Plasmas for IEDF and electron density control: Application to Microcrystalline Si Deposition. Semicon Korea, Jan 2013, Seoul, Korea, Unknown Region. ⟨hal-02573289⟩

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