Plasma deposition of nanocrystalline silicon for solar cells : RF waveform tailoring to optimize deposition rate and film morphology - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2012

Plasma deposition of nanocrystalline silicon for solar cells : RF waveform tailoring to optimize deposition rate and film morphology

Jean-Paul Booth
Laboratoire de Physique des Plasmas
CV
E.V. Johnson
CV
Pierre-Alexandre Delattre
  • Fonction : Auteur
Laboratoire de Physique des Plasmas

Domaines

Physique des plasmas [physics.plasm-ph]

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https://hal.science/hal-02573287

Soumis le : jeudi 14 mai 2020-12:07:56

Dernière modification le : jeudi 1 août 2024-13:48:06

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Identifiants

  • HAL Id : hal-02573287 , version 1

Citer

Jean-Paul Booth, E.V. Johnson, Pierre-Alexandre Delattre. Plasma deposition of nanocrystalline silicon for solar cells : RF waveform tailoring to optimize deposition rate and film morphology. Gaseous Electronics Meeting, Feb 2012, Murramarang, Australia. ⟨hal-02573287⟩

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