Effect of the process parameters of inductively coupled plasma reactive ion etching on the fabrication of diamond nanotips - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Physica Status Solidi A (applications and materials science) Année : 2014

Effect of the process parameters of inductively coupled plasma reactive ion etching on the fabrication of diamond nanotips

Domaines

Sciences de l'ingénieur [physics] Matériaux Micro et nanotechnologies/Microélectronique

Jocelyn ACHARD  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-02493660

Soumis le : vendredi 28 février 2020-08:34:09

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hal-02493660 , version 1 (28-02-2020)

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Citer

Hasan-Al Mehedi, Vianney Mille, Jocelyn Achard, Ovidiu Brinza, Alix Gicquel. Effect of the process parameters of inductively coupled plasma reactive ion etching on the fabrication of diamond nanotips. Physica Status Solidi A (applications and materials science), 2014, 211 (10), pp.2343-2346. ⟨10.1002/pssa.201431258⟩. ⟨hal-02493660⟩

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